美光投资2500亿美元!加码美国生产计划
美光科技近日宣布,将美国长期投资计划由原先2000亿美元提高至2500亿美元,2035年前将再增加约500亿美元资本支出,以扩大美国内存芯片制造能力,并同步宣布最高30亿美元的新一轮策略投资,进一步强化半导体供应链。
这项投资涵盖纽约州、爱达荷州和弗吉尼亚州等项目,美光预计,此次投资增加将有助于其实现长期目标,即在美国本土生产40%的DRAM芯片。
美光表示,新公布的最高30亿美元策略投资中,将投入5亿美元支持中国台湾环球晶(Globa lWafers)扩建德州晶圆研发与制造产能,双方并签署为期10年的原始硅晶圆供应协议,确保未来长期晶圆供货能力。
美光采购长Ben Tessone表示,确保关键原材料供应稳定,是支撑美光长期成长与技术发展蓝图的重要基础,而此次合作将有助公司建立更具韧性的美国半导体供应链。
近年AI数据中心快速扩建,使高效能内存需求持续飙升。美光正积极扩大产能,以满足AI模型训练及推论运算对内存容量与速度的大幅需求。
美光指出,目前位于总部所在地爱达荷州博伊西(Boise)的两座新晶圆厂已全面展开建设。同时,公司也在近期也完成纽约州克雷(Clay)新晶圆厂的首次混凝土浇置工程,正式展开主要厂房施工。
美光表示,纽约新厂完工后,将成为美国史上规模最大的半导体制造基地,也是公司未来数十年最重要的生产据点之一。
受AI热潮推动,美光以及竞争对手三星电子、SK海力士等存储芯片制造商,未来几年均计划投入数千亿美元扩充产能,以满足市场需求。上周,两家韩国芯片巨头宣布,计划合计投入最高8800亿美元,用于新建晶圆厂等项目。
美银证券在最新发布的半导体产业报告中称,随着HBM、DDR5及企业级储存需求持续扩大,加上AI服务器持续拉动DRAM及NAND闪存需求,存储芯片产业仍将是AI投资浪潮的重要受惠者。

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